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  • Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4400
Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4400

Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4400

  • 特點(diǎn)：? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等? 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron? 涂膠厚度從幾微米到上百微米不等? 覆蓋能力強(qiáng)，分辨率高，圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直? 化學(xué)放大膠，具有非常高的靈敏度? 可得到undercut結(jié)構(gòu)，用于lift-off工藝? 可替代SU8膠 。

產(chǎn)品詳情

特點(diǎn)：

? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等

? 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)

g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron

? 涂膠厚度從幾微米到上百微米不等

? 覆蓋能力強(qiáng)，分辨率高，圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直

? 化學(xué)放大膠，具有非常高的靈敏度

? 可得到undercut結(jié)構(gòu)，用于lift-off工藝

? 可替代SU8膠