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  • M-HP 200 Hotplate 加熱板
M-HP 200 Hotplate 加熱板

M-HP 200 Hotplate 加熱板

  • M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。

產(chǎn)品詳情

M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑最大為8英寸的晶圓片或最大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?span style="font-family: Times New Roman;">1到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。

                           

產(chǎn)品參數(shù)：

? 型號(hào)：M-HP 200 Hotplate熱板  

? 處理尺寸：直徑最大8英寸晶圓片或最大6 英寸x6英寸基板

? 溫度范圍：20°C至250°C可調(diào)

? 功率：600瓦

? 加熱時(shí)間：從1到9999秒

? 熱板表面安全蓋材質(zhì)：不銹鋼

? 不帶蓋的熱板尺寸：約350mm x 350mm x 200mm

? 控制器的尺寸：約135mm x 145mm x 95mm

? 臺(tái)式柜的尺寸：約 460mm x 360mm x 325mm

? 重量：約200磅

主營(yíng)產(chǎn)品：

Laurell勻膠機(jī)    

Harrick等離子清洗機(jī)

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺(tái)

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機(jī)      

Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

Nilt納米壓印機(jī)

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)